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晶體加工鍍膜超純水設(shè)備

產(chǎn)品介紹
光子晶體、半導(dǎo)體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產(chǎn)在制作過程中,往往需要使用極其純凈的超純水,如果純水水質(zhì)達(dá)不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話,會影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中,如其中混入雜質(zhì),就會影響電子的發(fā)射,進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命,在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),如其配制純水中含銅在8ppb以上,就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃動(dòng)并會造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。
工藝設(shè)計(jì)
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)  5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
 
設(shè)備特點(diǎn)
1、連續(xù)運(yùn)行禪水質(zhì)穩(wěn)定品質(zhì)好。
2、系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定。
3、運(yùn)行成本低。
4、占地面積小。
5、自動(dòng)化程度高。
 
技術(shù)參數(shù)
鐵離子: < 0.01mg/L
游離氯: < 0.5mg/L
硬度: < 1.0mg/L
活性SiO2: < 0.5mg/L
總有機(jī)碳: < 0.5mg/L
PH: 5.0-9.0
 
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